MF2抛光仪

抛光仪（Microforge）拉制出的电极，电极的**往往不是很光滑。为了能与细胞膜间形成稳定可靠的封接，一般拉制出的微电极需要对其**进行抛光处理，尤其是进行单通道记录时的微电极更需要进行抛光，此时需要使用抛光仪。单通道记录中还需要在微电极**涂上疏水性硅酮树脂（Sylgard）以减小跨壁电容（Transmural capacitance）带来的噪声，此时要注意先涂Sylgard后抛光。
 
《主要应用范围》
适用于对拉制出的膜片钳玻璃电极进行锻针、测量**开口大小以及涂抹硅酮树脂。

《主要特点》
目镜：15X，含测微尺；物镜：5X和35X。总放大倍数：75X和525X。
显微镜：Y（粗细/精细同轴旋钮）30mm
X（细微调节旋钮）约5°
Z（倾斜精细控制旋钮）3°。
加热丝操纵器移动距离：X轴14mm，Y轴14mm，Z轴14mm；玻璃管操纵器移动距离X12mm，Z28mm； 
玻璃管直径（外径）1-1.5mm。